펠리클은 EUV 공정에서 회로를 새겨 넣는 판인 포토마스크를 이물질로부터 보호하는 역할을 한다. EUV 공정은 광투과를 통해 노광을 진행하게 되는데, 펠리클이 이 과정에서 발생되는 파티클(이물질)에 의한 마스크 손상 등의 공정 손실을 최소화해 제품의 수율을 높일 수 있어 개당 가격이 수천만원에서 비싸게는 1억원에 육박하는 고부가가치 제품으로 평가받는다.
특히 현재 상용화된 EUV 펠리클은 EUV 노광 장비 출력인 300~400W에 적합하지만, 향후 도입될 하이-NA EUV 장비는 출력이 높아 600W 이상의 내구성을 갖춘 새로운 펠리클이 필요한 상황이다. 탄소나노튜브 펠리클은 기존 실리콘 소재의 EUV 펠리클보다 내구성이 2배 강해 향후 도입될 하이-NA EUV 공정에 최적화되었다는 평가를 받는다.
강득주 제이오 대표는 “제이오는 이번 기술 이전 협약을 통해 유관기관들과의 협력을 공고히 하고, 차세대 반도체 연구에 기여함으로써 탄소나노튜브 분야 독보적인 선도기업으로 자리매김 할 것”이라며 “탄소나노튜브는 이차전지와 반도체 산업에 이어 향후 방산과 전장 및 건자재 산업 등에서도 혁신 소재로 자리매김하게 될 것이며, 이를 주도하는 제이오는 글로벌 모든 산업에 탄소나노튜브를 적용해 탄소나노튜브 월드를 세워 갈 것“라고 말했다.
인하대학교 양승재 교수 또한 “이번 기술이전이 대학 연구 성과의 산학협력 모범 사례이자 국가 산업 부흥의 초석이 되길 바란다”고 말했다.
한편 제이오는 지난 20년간 탄소나노튜브 개발을 통해 업계 최초 다중벽탄소나노튜브(MWCNT) 대량생산 성공에 이어, 2014년 세계 최초 비철계 탄소나노튜브 개발 및 소수벽탄소나노튜브(TWCNT) 개발 성공, 2023년 단일벽탄소나노튜브(SWCNT) 개발 성공 등 세계 최고 수준의 CNT 개발 기술력을 갖춘 기업이다.